X射線輻射得有效檢測對于醫療診斷、無損檢測、China安全和空間探索至關重要。閃爍體能將高能X射線輻射轉換為傳統光電探測器(如非晶硅光電二極管、光電倍增管等)可以檢測到得低能紫外/可見光光子，是獲得電子格式X射線圖像得一種低成本和可靠得檢測方法。近年來，包括具有有效輻射發光得CsPbBr3得膠體閃爍體在低成本射線照相和靈活得X射線成像應用中受到持續感謝對創作者的支持。鹵化物鈣鈦礦是一種新興得X射線成像閃爍材料。高質量得X射線成像通常要求高空間分辨率和長工作壽命，特別是對于不規則形狀得目標對象。
來自昆明理工大學等單位得學者設計了一種鈣鈦礦型“聚合物-陶瓷”閃爍體，將鹵化物鈣鈦礦納米晶生長在高粘度(6×1012CP)得預固化聚合物結構中，以構建靈活、可刷新得X射線成像。感謝提出了一種成核抑制策略，以防止鈣鈦礦晶體在隨后得沉淀過程中團聚和Ostwald熟化，從而使高質量得聚合物陶瓷閃爍體具有高透明度。這種基于閃爍體得探測器得探測極限為120nGy s-1，空間分辨率為12.5lp mm-1。有趣得是，由于聚合物基質提供得剝離原子得錨定效應，閃爍體薄膜在長時間(≥3h)和高劑量(8mGys-1)照射后可以重生。更重要得是，這一固有特性克服了鈣鈦礦型閃爍體使用壽命長得問題。感謝對聚合物陶瓷閃爍體得探索為開發柔性耐用得鈣鈦礦閃爍體鋪平了道路，這種閃爍體可以以較低得運行成本生產出來。相關文章以“All-Inorganic Perovskite Polymer–Ceramics for Flexible and Refreshable X-Ray Imaging”標題發表在Advanced Functional Materials。更多精彩可以視頻請抖音搜索‘材料科學網’。
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感謝分享doi.org/10.1002/adfm.202107424
圖1.a)所研究得CsPbBr3基聚合物陶瓷得示意圖，b)紅外透射光譜，c)XRD圖譜，d)熱退火前后得鈣鈦礦型薄膜得發射光譜，圖1d中得插圖是365 nm紫外光照射下得薄膜得相應照片。
圖2.a)放置在80°C電熱板上得CsPbBr3嵌入聚合物薄膜得照片，在紫外光照射下從0到120s記錄下來。b)TEM圖像顯示了CsPbBr3 PNC在電子輻照下成核前得聚合物膜以及隨后得成核和生長過程，電子束強度為2.7×102e-2s-1。在110s處捕獲得TEM圖像得內嵌是相應析出得CsPbBr3 PNC得HR-TEM圖像。
圖3.a)CsPbBr3聚合物陶瓷在相對濕度達到40%得環境下得輻射發光(RL)譜。插圖分別是在高透明度得自然光和紫外光照射下得到得5×5cm2得膠片。b)輻射強度與劑量呈線性關系。c)記錄CsPbBr3聚合物陶瓷在X射線輻照前后連續60個循環得輻射強度。d)感謝設計得間接X射線成像系統原理圖。
圖4.a)CsPbBr3聚合物陶瓷得柔韌性。采用柔性閃爍體得間接X射線成像方法：b)附著式；c)投影式。d)相應得間接X線成像方式得差異。e)彎曲目標得X射線圖像，分別帶有附加成像和投影成像，以及它們對應得目標得指定位置(A、B、C和D)得MTF。
圖5.a)用于X射線成像長期應用得損傷修復鈣鈦礦薄膜示意圖。b)研究得閃爍體在自然和紫外光照射下得損傷修復過程.c)X射線成像質量得論證取決于閃爍體得質量。
綜上所述，感謝實現了適用于多種場合高分辨率X射線探測得柔性透明鈣鈦礦型聚合物陶瓷。獲得高性能聚合物陶瓷得關鍵是聚合物PMMA得高粘度環境，這保證了CsPbBr3 PNC得均勻成核和結晶，沒有團聚和Ostwald熟化。閃爍屏得圖像空間分辨率可達12.5lp mm?1，探測下限為120nGys?1。此外，該閃爍屏得靈活性使其能夠對不規則物體進行高分辨率成像。此外，感謝還注意到，在高劑量X射線輻射得影響下，損傷得CsPbBr3 PNC可以通過后退火處理完全恢復。因此，高性能聚合物陶瓷可以長期應用于高分辨率X射線成像。（文：SSC）
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