來自東京都立大學得最新科學家們成功地設計了過渡金屬二硫化物得多層納米結(jié)構(gòu)，它們在平面內(nèi)相遇形成結(jié)點。他們從摻雜鈮得二硫化鉬碎片得邊緣長出了二硫化鉬得多層結(jié)構(gòu)，形成了一個厚實得、粘合得、平面得異質(zhì)結(jié)構(gòu)。他們證明了這些可用于制造新得隧道場效應晶體管（TFET），即具有超低功率消耗得集成電路中得元件。
化學氣相沉積法可用于從不同得TMDC中生長出一個多層TMDC結(jié)構(gòu)。資料近日：東京都立大學
場效應晶體管（FET）是幾乎所有數(shù)字電路得一個重要組成部分。它們根據(jù)跨接得電壓來控制電流得通過。雖然金屬氧化物半導體場效應晶體管（或稱MOSFET）構(gòu)成了當今使用得大多數(shù)場效應晶體管，但人們正在尋找下一代材料，以驅(qū)動要求越來越高、體積越來越小得設備，并使用更少得功率。這就是隧道式場效應晶體管（或TFET）得作用。TFET依賴于量子隧道，這是一種電子能夠通過通常因量子力學效應而無法逾越得障礙得效應。盡管TFETs使用得能量要少的多，并且長期以來一直被認為是傳統(tǒng)FETs得一個有前途得替代品，但最新科學家們還沒有想出以可擴展得形式實現(xiàn)該技術得方法。
由宮田康光副教授少婦得東京都立大學得一個最新科學家團隊一直致力于用過渡金屬二鈣化物制作納米結(jié)構(gòu)，過渡金屬和第16組元素得混合物。過渡金屬二鈣化物（TMDCs，兩個鈣化物原子對一個金屬原子）是制造TFET得優(yōu)秀候選材料。他們最近得成功使他們能夠?qū)卧雍竦镁wTMDC片層縫合到前所未有得長度上。
現(xiàn)在，他們已經(jīng)將注意力轉(zhuǎn)向了TMDC得多層結(jié)構(gòu)。通過使用化學氣相沉積（CVD）技術，他們表明他們專業(yè)從安裝在襯底上得堆疊晶體平面得邊緣生長出不同得TMDC。其結(jié)果是一個多層厚度得面內(nèi)結(jié)。現(xiàn)有得關于TMDC結(jié)得大部分工作都是使用相互堆疊得單層；這是因為，盡管面內(nèi)結(jié)得理論性能極佳，但以前得嘗試無法實現(xiàn)使TFET工作所需得高空穴和電子濃度。
(a) 二硒化鎢和二硫化鉬得多層結(jié)得掃描透射電子顯微鏡支持。(b) 用于表征摻雜鈮和未摻雜二硫化鉬得多層p-n結(jié)得電路示意圖。(c) 結(jié)上得導帶最小值（Ec）和價帶蕞大值（Ev）得能級示意圖。費米水平（EF）表示在零溫度下電子填充能級得水平。當施加柵極電壓時，電導帶中得電子專業(yè)穿越界面隧道。(d) 電流-電壓曲線作為柵極電壓得函數(shù)。在較高得柵極電壓下，專業(yè)清楚地看到NDR趨勢。資料近日：東京都立大學
在使用從二硒化鎢生長出來得二硫化鉬證明了他們技術得穩(wěn)健性之后，他們把注意力轉(zhuǎn)向了鈮摻雜得二硫化鉬，一種p型半導體。通過生長出未摻雜得二硫化鉬（一種n型半導體）得多層結(jié)構(gòu)，研究小組實現(xiàn)了TMDC之間得厚p-n結(jié)，其載流子濃度達到了前所未有得高度。此外，他們發(fā)現(xiàn)該結(jié)呈現(xiàn)出負微分電阻（NDR）得趨勢，即電壓得增加導致電流得增加越來越少，這是隧道得一個關鍵特征，也是這些納米材料進入TFET得重要第壹步。
該團隊采用得方法也專業(yè)在大面積上擴展，使其適合在電路制造過程中實施。這對現(xiàn)代電子學來說是一個令人興奮得新發(fā)展，希望它能在未來得應用中找到官網(wǎng)得方式。
